Las tierras raras acaparan el protagonismo en el ámbito de los semiconductores y otras industrias desde que comenzaron las tensiones entre EEUU y China. El galio, el germanio y el antimonio no pertenecen a este grupo de elementos químicos exóticos, pero también están siendo utilizados como moneda de cambio por estas dos grandes potencias para agredirse. Sea como sea en el dominio de los circuitos integrados hay un elemento químico que es mucho más humilde, pero que también resulta esencial. Y no se trata del también imprescindible silicio. Es el cobre.

Este metal de transición no es uno de los elementos químicos más abundantes en nuestro planeta, pero tampoco es raro. Y, afortunadamente, es relativamente sencillo extraerlo y procesarlo. Destaca por su alta conductividad eléctrica y buena conductividad térmica, así como por su ductilidad y resistencia a la corrosión. Estas propiedades han provocado que sea uno de los elementos imprescindibles en la fabricación de semiconductores desde hace décadas, pero poco a poco se está abriendo paso una alternativa que parece estar llamada a desbancarlo. Y es realmente exótica.

El rutenio se está abriendo paso en la industria de los circuitos integrados

Antes de que indaguemos en las propiedades del rutenio nos viene bien conocer con precisión para qué emplean el cobre los fabricantes de chips. Y lo utilizan ante todo en las conexiones de los transistores dentro de los circuitos integrados. Los enlaces de cobre se encargan de transmitir las señales eléctricas entre unos transistores y otros, por lo que su intervención es esencial dentro de los semiconductores. De hecho, las propiedades eléctricas que he destacado en el párrafo anterior son las responsables de que este metal tenga un rol tan relevante.

Sin embargo, su adopción en un principio no fue sencilla. Y no lo fue debido a que el cobre puede filtrarse en el silicio. Este proceso se conoce como difusión del cobre en el silicio, y es similar a la electromigración de la que os hablamos en este otro artículo para explicar por qué este último fenómeno representa una amenaza para nuestros dispositivos electrónicos. En cualquier caso, durante la difusión los átomos de cobre se desplazan y se infiltran en la estructura cristalina del silicio, degradándola y condicionando sus propiedades fisicoquímicas.

Afortunadamente, IBM dio con la solución a este problema en 1998. Sus investigadores se dieron cuenta de que era posible poner a punto un revestimiento para las interconexiones de cobre capaz de actuar como una barrera, y, por tanto, de impedir que los átomos de cobre se infiltren en el silicio. Esta estrategia fue tan eficaz que la industria de los semiconductores la adoptó y la ha mantenido hasta ahora. Sin embargo, la innovación se abre paso, y el rutenio, como he mencionado unas líneas más arriba, parece estar llamado a reemplazar al cobre en las conexiones entre transistores.

Jon Yu, el responsable de la newsletter The Asianometry, lo ha sugerido muy acertadamente durante la conversación que ha mantenido con Ben Thompson, el autor de la interesantísima publicación Stratechery. “Toda la industria siguió los pasos de IBM y el cobre tuvo que ser tratado de una forma innovadora que ha funcionado bien durante más de 20 años. Ahora creo que la industria probablemente está considerando el rutenio como el próximo gran avance en interconexiones más allá del cobre”.

Al igual que el cobre, el rutenio es un metal de transición. Las dos propiedades que lo hacen tan interesante para ocupar el lugar del cobre dentro de los circuitos integrados son su alta conductividad eléctrica y su excelente resistencia a la corrosión. Sin embargo, no podemos pasar por alto algo muy importante: el rutenio es muy escaso en la corteza terrestre. Escasísimo. Solo el 0,0000002% de la corteza de nuestro planeta es rutenio.

Las principales reservas de este metal se encuentran en Sudáfrica, Rusia, Zimbabue, Canadá y EEUU. Veremos si finalmente se consolida como uno de los ingredientes esenciales de la próxima generación de circuitos integrados. De ser así con toda probabilidad se transformará en otro objeto de deseo de las grandes potencias.

Imagen | TSMC

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En Xataka | La carrera de los chips de 2 nm arrancará en 2025. Y será la más encarnizada de todas

La Ley de IA de la Unión Europea entró en vigor el pasado 1 de agosto de 2024, y ayer la Comisión Europea publicó un comunicado en el que se revelaban los usos y prácticas prohibidas de IA.

Dichas “prácticas de IA prohibidas”  están detalladas en el propio texto de la Ley de IA. En concreto, en su artículo 5. El objetivo es tratar de cubrir una serie de casos en los que la IA puede intentar interactuar con las personas, tanto a través de aplicaciones para consumidores como a través de entornos físicos.

La regulación europea definió cuatro niveles de riesgo para los sistemas de IA que van desde el riesgo mínimo (filtros de spam) al riesgo inaceptable, considerados como sistemas como una amenaza para la seguridad. Entre las actividades inaceptables están las siguientes: 

• IA para puntuación social, lo que permite crear perfiles de riesgo basadas en el comportamiento de las personas.
• IA manipuladoras capaces de afectar las decisiones de las personas de forma subliminal o mediante engaños.
• IA que explota vulnerabilidades como la edad, la discapacidad o el nivel socioeconómico de los usuarios.
• IA que intenta predecir si la gente cometerá crímenes basándose en su apariencia
• IA que usa la biometría para inferir las características de una persona, como su orientación sexual
• IA que recolecta datos biométricos en tiempo real en sitios públicos con fines de seguridad policial
• IA que registra y trata de inferir las emociones de los usuarios tanto en el lugar de trabajo como en las instituciones académicas
• IA que crea o amplía las bases de datos de reconocimiento facial recolectando imágenes online o a través de cámaras de seguridad

Las empresas que violen esa normativa se enfrentarán a multas de hasta 35 millones de euros o de hasta el 7% de sus ingresos anuales el año fiscal anterior, la cifra que sea mayor. Y esas multas afectan a cualquier empresa, sin importar dónde tenga instalada su sede.

El pasado mes de septiembre 100 empresas firmaron el Pacto de IA de la UE, una iniciativa voluntaria para impulsar la aplicación de los principios de la Ley de IA. Entre los firmantes estaban gigantes como Amazon, Google y OpenAI, y todos se comprometieron a identificar sistemas de IA potencialmente calificados como de alto riesgo.

Hay no obstante algunas excepciones a esos usos prohibidos de la IA. Así, por ejemplo la Ley de la IA permite que las agencias de seguridad puedan usar ciertos sistemas de recolección de datos biométricos —como nuestra cara— si esos sistemas ayudan a realizar “búsquedas dirigidas” para por ejemplo víctimas de secuestros o a evitar amenazas inminentes a las personas. Eso validaría usos como el que recientemente conocimos en Madrid.

Los países de la Unión Europea tienen hasta el 2 de agosto para designar qué autoridades vigilarán este mercado y garantizarán el cumplimiento de las reglas de la ley de IA. La pregunta, es el impacto que esto tendrá en la disponibilidad de funciones de IA en la UE.

Dado que se habla de sistemas de alto riesgo, ese impacto debería ser mínimo, pero el resto del marco regulatorio —con la DMA como protagonista— sí plantea un obstáculo importante para que en la UE disfrutemos de los últimos avances en este campo.

En Xataka | La ley de inteligencia artificial de la UE ha nacido obsoleta. Así que ya está preparando la siguiente

“Invitados a la Met Gala, ¡saquen sus trajes!”

Esa fue la orden desde lo alto cuando el Museo Metropolitano de Arte reveló el código de vestimenta para su celebración anual de la moda en mayo: “Hecho a tu medida”, un guiño al enfoque de la exposición de trajes y moda masculina que inaugurará la gala.

Es un concepto adecuado —destinado a ser interpretado de manera liberal, por supuesto— para la primera exposición de la Met Gala en más de 20 años que se centra exclusivamente en la moda masculina, específicamente en el estilo negro a lo largo de los siglos.

El Instituto del Vestido del Met también anunció el martes que revivirá lo que llamó una tradición de larga data de un “comité anfitrión”, básicamente una nueva lista de celebridades de alto perfil además de los anfitriones de la gala previamente anunciados: Pharrell Williams, Lewis Hamilton, Colman Domingo, A$AP Rocky y LeBron James.

La editora de Vogue, Anna Wintour, quien supervisa la gala cada año, completa la lista.

El nuevo comité incluye a una serie de luminarias de varios campos: los deportistas Simone Biles y su esposo Jonathan Owens, Angel Reese y Sha’Carri Richardson; los cineastas Spike Lee, Tonya Lewis Lee y Regina King; los actores Ayo Edebiri, Audra McDonald y Jeremy Pope; los músicos Doechii, Usher, Tyla, Janelle Monáe y André 3000; la autora Chimamanda Ngozi Adichie; los artistas Jordan Casteel, Rashid Johnson y Kara Walker; los dramaturgos Jeremy O. Harris y Branden Jacobs-Jenkins; y figuras de la moda como Grace Wales Bonner, Edward Enninful, Dapper Dan y Olivier Rousteing.

El chef celebridad Kwame Onwuachi creará el menú para la gala. Un enorme evento de recaudación de fondos para el Instituto del Vestido, el evento anual —que el año pasado recaudó una suma récord de más de 26 millones de dólares— inaugura la exposición de primavera: “Superfine: Tailoring Black Style” (Superfino: Confeccionando el estilo negro), que durará más que las muestras anteriores con seis meses, y está inspirada en el libro de Monica L. Miller, “Slaves to Fashion: Black Dandyism and the Styling of Black Diasporic Identity” (“Esclavos de la moda: el dandismo negro y el estilo de la identidad diaspórica negra”).

“El tema de este año no sólo es oportuno”, dijo Usher, “sino que también habla de nuestra rica cultura que siempre debería ser ampliamente celebrada”.

Agregó Richardson: “Nuestro estilo no es sólo lo que vestimos, es cómo nos movemos, cómo ocupamos nuestro espacio, cómo contamos nuestra historia sin decir una palabra”. Ambos miembros del comité anfitrión hablaron en un comunicado proporcionado por el Met.

El Met dice que la muestra “presenta un examen cultural e histórico del estilo negro desde el siglo XVIII hasta hoy a través del prisma del dandismo”.

Miller, profesora de Barnard y curadora invitada de la muestra, junto con el curador estrella del Met, Andrew Bolton, señalaron en un evento del museo el año pasado que ya en la década de 1780, los “dandis” a menudo se definían como “hombres que prestaban una atención distinta y a veces excesiva al vestir”.

“Las definiciones históricas de dandismo van desde la precisión absoluta en el vestir y la sastrería hasta la extravagancia y la fabulosidad”, dijo Miller. La muestra se centrará específicamente en el dandismo negro; más ampliamente, cronometrará las formas en que las personas afroamericanas han utilizado el vestir y la moda a lo largo de los siglos para transformar sus identidades, dijo el museo.

La muestra se dividirá en 12 secciones, cada una representará una característica que define el estilo “dandi”: propiedad, presencia, distinción, disfraz, libertad, campeón, distinción, jook (casa de placer para negros), herencia, belleza, frescura y cosmopolitismo.

La Met Gala tendrá lugar el 5 de mayo. “Superfine: Tailoring Black Style” estará abierta al público del 10 de mayo al 26 de octubre.